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無鹵指令產生背景 
繼無鉛制程後，新一波的綠色電子浪潮～無鹵素(Halogen-free)將再次席卷全球之電子產業。在即將開始實施的挪威PoHS法令中，已明確規范十八種必須排除的有害物質，第一類群組即為溴系阻燃劑，包括六環溴十二烷(HBCDD)與印刷電路板中最常用的四溴丙二酚(TBBPA)等。除了國際間將陸續訂定相關法律外，國際大廠包括ASUS、Dell、HP、Apple、Intel、AMD等公司亦聲明將自2008年開始導入無鹵素材料。
鹵素材料是指在周期表中的氟(F)、氯(Cl) 、溴(Br) 、碘(I) ，主要是在做阻燃的功能，被廣泛應用在電子設備及它的副件包括機器盒、印制電路板、纜繩導線、塑料零件及包裝材料。電子零組件與材料、電子產品的接著技術、產品外殼 (Housing)，PP、ABS、PMMA、PC…、塑膠、色料等。
鹵素的危害也是眾所周知的，有機鹵化合物在人體中可導致癌癥，而且其低生物降解率會導致生態系統中的積累，一些揮發性的有機鹵化物對臭氧層也有極大的破壞作用，進而對環境和人類健康造成嚴重影響，因此鹵素化合物被列為對人類和環境有害的化學品，禁止或限量使用。

關于鹵素的法規 
● 蒙特利爾議定書 :蒙特利爾議定書又稱作蒙特利爾公約，全名為“蒙特利爾破壞臭氧層物質管制議定書（Montreal Protocol on Substances that Depletethe Ozone Layer）”，是聯合國為了避免工業產品中的氟氯碳化物對地球臭氧層繼續造成惡化及損害，承續1985年保護臭氧層維也納公約的大原則，于1987年9月16日邀請所屬26個會員國在加拿大蒙特利爾所簽署的環境保護公約。該公約自1989年1月1日起生效。
● 斯德哥爾摩公約:2001年5月22日于斯德哥爾摩通過2004年5月17日生效 ,本公約的目標是,銘記《關于環境與發展的里約宣言》之原則15確立的預防原則,保護人類健康和環境免受持久性有機污染物的危害。
● IEC61249-2-21 :針對鹵素給出了明確的限量值。
● 2003/11/EC是關于全面禁用兩種含溴阻燃劑的。

國際如鹵素材料的規范 
從氟利昂到POPs，從PVC到溴化阻燃劑（BFR），有機鹵化物對人體和自然生態環境的危害已是不爭的事實。從2006年7月1日起，全面禁用溴類阻燃劑。同時，國際上已有一系列法律法規禁止在電子電器、玩具和皮革制品上使用部分有毒有害的含鹵有機溶劑，其中包括在生產加工過程中禁止使用、在最終產品上不得殘留、在最終產品上可揮發的含鹵有機物不得超過某一限制。
國際組織或大廠如IEC、IPC、JPCA及三星等均已定義其無鹵素材料的規格，其中IEC 61249-2-21規范要求溴、氯化物之含量必須低於900 ppm，總鹵素含量則必須低於1500 ppm，IPC之無鹵素定義與IEC相同；JPCA之規范則定義溴化物與氯化物含量限制均為900 ppm，并未要求總鹵素含量。三星規定溴化物與氯化物含量限制各為900 ppm。

管制鹵素規定 
● 限制使用氯、溴和總體鹵素的含量
● IEC61249-2-21：2003
印制板及其他互連結構用材料，第2-21部分包含和非包含E玻璃纖維增強無鹵阻燃劑（垂直燃燒試驗)環氧樹脂覆銅板。
● Cl+Br≦1500ppm
● Cl≦900ppm
● Br≦900ppm
● 日本印刷電路板協會標準JPCA-ES-01-1999
● Cl≦900ppm
● Br≦900ppm
● 國際印刷電路協會標準IFC4101B
● Cl≦900ppm
● Br≦900ppm
● 國際中大買家公司環境政策標準
● Cl+Br≦1500ppm
● Cl≦900ppm
● Br≦900ppm
其他鹵素總量F/I/At目前沒有通用標準和規定，不過近幾年來一些負責任的國際買家已將F元素納入環境管控物質，后續應會全面的推廣。

無鹵素分析檢測方案 

 
 
儀器分析上，能分析鹵素濃度最常使用的分析儀器分別為XRF(X光螢光光譜儀)及JPJ(離子分析儀)兩種。 
X-熒光光譜儀 (X-ray Fluorescence Spectrometer, XRF )系利用X-光束照射試片以激發試片中的元素，當原子自激發態回到基態時，偵測所釋放出來的螢光，經由分光儀分析其能量與強度後，可提供試片中組成元素的種類與含量。
離子色譜法是利用離子交換的原理，使待測定的離子在流動相與固定相間的不同親和力而得以分離，采用電導檢測器測定，根據各成分的保留時間定性，利用色譜峰面積定量的分析方法。檢測限可以達到ppb的分析水平。目前根據BS EN14582:2007標準，就是氧彈燃燒利用離子色譜儀分析鹵素。

XRF熒光光譜法 
優勢：
1、X射線熒光原理，無損、快速、準確的檢測和鑒定材料成分；
2、銅材、鋼材、鋅合金、錫合金等各種合金元素成分分析；
3、高分辨率探測器，能夠檢測到幾十ppm的元素含量；
4、固體、粉末、液體等樣品可直接測試
5、幾十秒可得出穩定準確的測試數據；
6、測試過程簡單、輸出報告多種格式、查詢篩選統計功能齊全。
7、FP法的譜圖對比分析方法，供應商物料發生變化及時預警功能。

IEC62321對XRF的定位及缺點 
XRF光譜分析法適用于高分子、金屬和陶瓷材料，包括大部分的電子電氣類產品
XRF光譜分析法是一種無損分析方法
XRF技術具有快捷、方便兩大特點
XRF分析結果有合格、不合格、待定三種
XRF光譜分析法是一種比較分析技術，其性能取決于標樣和儀器本身，容易受到基體影響和光譜干涉
XRF光譜分析法光斑照射為樣品中的部分（測試點），對于不均勻的樣品測試偏差會很大
XRF光譜分析法數據只能是提供參考，用于材料的快速篩選。

樣品拆分原則： 
按照物理工具進行拆分，到不能在拆分為止。

離子色譜法 
優勢：
離子色譜法采用化學測試，能夠有效全面測試樣品中的鹵素含量；
國際/國家標準的測試方法，均采用離子色譜法；
此方法測試數據更加真實可靠，可達到第三方公證機構的參數要求；
此方法對于操作人員要求均低于其他化學法測試儀器；
儀器使用過程中相對測試成本低，耗材消耗量小